POSITIV RESIST 200 мл Лак и покрытие Cramolin

POSITIV RESIST Светочувствительный лак для производства печатных плат POSITIV RESIST - светочувствительное покрытие, позволяющее фотокопировать линии, формы и контуры. Он предлагает относительно простую процедуру аккуратного переноса любого изображения на самые различные материалы. POSITIV RESIST легок в применении, быстро высыхает, обеспечивает хорошую контрастность и высокую точность.
Применение
Производство отдельных печатных плат или их мелких серий. Изготовление лицевых панелей и вывесок, градуировка, также используется для изготовления матриц в гравировании, для травления на меди, латуни и других материалах. Очистка: обезжирить поверхность перед нанесением. Нанесение: с расстояния около 20 см, пока не появится видимая пленка; работать в условиях отсутствия пыли; время высыхания - 30-60 мин при 20С, лучше - 15 мин при 70С. Экспонирование: лампа с высоким содержанием ультрафиолета, предпочтительно кварцевая с мягкой частью УФ спектра; время экспонирования зависит от лампы, как правило - от 30 до 60 сек. Проявление: свежеприготовленный раствор КОН (5-7 г на 1 л воды), можно использовать кальцинированную соду более высокой концентрации, можно использовать NaOH. Травление: хлорное железо или персульфат аммония; порядка 10 мин, перемешивая. Смывка: ацетон.

Технические данные

Цвет:	густо-фиолетовый
Плотность:	0,85 г/см3
Время высыхания:	30-60 мин
Светочувствительность:	310-440 нм, максимум 330-420 нм